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J-GLOBAL ID：200903054742310050

エッチング装置および方法

Inventor： 坂本 由美 ,  金子 寿輝
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 中村 純之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998265897
Publication number (International publication number)：2000096264
Application date： Sep. 21, 1998
Publication date： Apr. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】エッチング液の濃度をリアルタイムで定常的に管理し、エッチングパターン形成の安定性、形成寸法精度の向上を図り、エッチング液組成変動によるエッチング不良の発生を抑制する。【解決手段】エッチング室3と、エッチング液3Sを溜め置くタンク4と、エッチング室3とタンク4間でエッチング液を循環させる第1の循環ライン8a、8bとを有し、タンク4に第2の循環ライン10a、10b、10cを設け、該第2の循環ライン間に、エッチング液の冷却装置5と、その下流にエッチング液中の超音波伝播速度によりその濃度を計測する濃度計6とを設け、タンク4に新しいエッチング液を供給するライン9を設け、濃度測定の結果、濃度が上昇した場合に、タンク4に新しいエッチング液を供給するようになっている。

Claim (excerpt)：

エッチング液を用いてエッチングを行うエッチング装置において、上記エッチング液中における超音波の伝播速度により該エッチング液の濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とするエッチング装置。

IPC (4)：

C23F 1/08 ,  G01N 29/10 506 ,  G01N 29/18 ,  H01L 21/306

FI (4)：

C23F 1/08 ,  G01N 29/10 506 ,  G01N 29/18 ,  H01L 21/306 J

F-Term (17)：

2G047AA01 ,  2G047BC02 ,  2G047EA13 ,  4K057WA19 ,  4K057WA20 ,  4K057WB08 ,  4K057WE02 ,  4K057WG02 ,  4K057WG03 ,  4K057WM17 ,  4K057WM20 ,  4K057WN01 ,  5F043BB18 ,  5F043BB27 ,  5F043EE23 ,  5F043EE28 ,  5F043GG10