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J-GLOBAL ID：200903054761101771
ケーソンの沈設方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山口 朔生 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994330117
Publication number (International publication number)：1996158378
Application date： Dec. 06, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：
【要約】【目的】ケーソン1の周囲に発生した余掘り余掘り間隙4が、周囲の土砂や地盤に影響を及ぼすことがない、ケーソン1の沈設方法を提供することを目的とする。【構成】ケーソン1の沈下に際して、ケーソン1の外周面に沿って高分子吸水性樹脂6の層を形成し、ケーソン1着底後に、この高分子吸水性樹脂6の層を硬化材7の層に置き換えて行う、ケーソン1の沈設方法を特徴としたものである。
Claim (excerpt)：
ケーソンの沈下に際して、ケーソンの外周面に沿って、高分子吸水性樹脂の層を形成し、ケーソン着底後に、この高分子吸水性樹脂の層を、硬化材の層に置き換えて行う、ケーソンの沈設方法
IPC (2)：
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