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J-GLOBAL ID:200903054787135682
水素吸蔵合金粉末の表面処理方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998025522
Publication number (International publication number):1999222601
Application date: Feb. 06, 1998
Publication date: Aug. 17, 1999
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】二ッケルリッチ層形成処理におけるプロセス条件の変動にもかかわらず最適な量のニッケルリッチ層を得ることができる水素吸蔵合金粉末の表面処理方法の提供。【解決手段】ニッケルリッチ層形成処理中の水素吸蔵合金粉末の表面状態の変化に応じて変化する水素吸蔵合金粉末の磁気特性を検出し、前記磁気特性が所定値となった時点で前記処理を終了する、ニッケルを含む水素吸蔵合金粉末を処理して、前記水素吸蔵粉末の表面にニッケルリッチ層を形成する、ニッケルリッチ層形成処理を行う、水素吸蔵合金粉末の表面処理方法。
Claim (excerpt):
ニッケルを含む水素吸蔵合金粉末を処理して前記水素吸蔵合金粉末の表面にニッケルリッチ層を形成するニッケルリッチ層形成処理を行う水素吸蔵合金粉末の表面処理方法において、前記ニッケルリッチ層形成処理中の前記水素吸蔵合金粉末の表面状態の変化に応じて変化する前記水素吸蔵合金粉末の磁気特性を検出し、前記磁気特性が所定値となった時点で前記処理を終了することを特徴とする水素吸蔵合金粉末の表面処理方法。
IPC (3):
B22F 1/00
, H01M 4/26
, H01M 4/38
FI (3):
B22F 1/00 A
, H01M 4/26 J
, H01M 4/38 A
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