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J-GLOBAL ID：200903054794080133

ネガ型レジスト組成物及びレジスト像の製造法

Inventor： 佐々木 守 ,  中野 一 ,  橋本 通晰 ,  内野 正市 ,  上野 巧
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995098720
Publication number (International publication number)：1996292561
Application date： Apr. 24, 1995
Publication date： Nov. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】 感光性あるいは感放射線性が高く、かつ解像度に優れたネガ型レジスト組成物及びこれを用いたレジスト像の製造法を提供すること。【構成】 アルカリ水溶液可溶性樹脂、ブロモメチルアリールケトン又はジブロモメチルアリールケトン、アミノ樹脂及び下記の一般式(I)【化1】〔式中、X、Y及びZはそれぞれ独立にアルキル基、水素原子、塩素原子又は臭素原子を表す〕で示されるフェノール化合物を含むネガ型レジスト組成物及び該組成物を基板上に塗布し、乾燥後、露光又は活性放射線照射を行い、加熱し、次いでアルカリ水溶液で現像することを特徴とするレジスト像の製造法。

Claim (excerpt)：

アルカリ水溶液可溶性樹脂、ブロモメチルアリールケトン又はジブロモメチルアリールケトン、アミノ樹脂及び一般式(I)【化1】〔式中、X、Y及びZはそれぞれ独立にアルキル基、水素原子、塩素原子又は臭素原子を表す〕で示されるフェノール化合物を含むネガ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/30 502 R