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J-GLOBAL ID:200903054797708940

触媒の浄化率検出装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤谷 修
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991215935
Publication number (International publication number):1993010182
Application date: Jul. 31, 1991
Publication date: Jan. 19, 1993
Summary:
【要約】【目的】 排ガスを浄化する触媒の浄化率を精度良く検出すること。【構成】 第1の酸素センサの出力値に応じて、燃料噴射時間を決定する1要素のフィードバック補正係数を変化させるフィードバック補正手段と、触媒の浄化率を測定する場合には、フィードバック補正係数の増減の周期を、通常のエミッション制御時における周期から変化させるフィードバック補正係数制御手段(2060-2062) と、フィードバック補正係数制御手段により決定される周期でフィードバック補正係数を変化させて、少なくとも第2の酸素センサの出力値に応じて、触媒の浄化率を測定する測定手段とで構成される。検出すべき触媒の浄化率に対して最適なフィードバック周波数で制御されるので、その浄化率の正確に測定できる。
Claim (excerpt):
内燃機関の排気系に配設され、排ガスを浄化するための触媒と、この触媒の上・下流にそれぞれ配設された第1,第2の酸素センサと、少なくとも前記第1の酸素センサの出力値に応じて、燃料噴射時間を決定する1要素のフィードバック補正係数を変化させるフィードバック補正手段と、前記触媒の浄化率を測定する場合には、前記フィードバック補正係数の増減の周期を、通常のエミッション制御時における周期から変化させるフィードバック補正係数制御手段と、前記フィードバック補正係数制御手段により決定される周期で前記フィードバック補正係数を変化させて、少なくとも前記第2の酸素センサの出力値に応じて、前記触媒の浄化率を測定する測定手段とを備える触媒の浄化率検出装置。
IPC (4):
F02D 41/14 310 ,  F01N 3/20 ,  F02D 41/22 301 ,  F02D 45/00 368
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平2-207159
  • 特開昭64-053042
  • 特開平3-210039

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