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J-GLOBAL ID：200903054809167745

シリコーン樹脂組成物及びこれを用いたケイ酸ガラス薄膜の製造方法

Inventor： 伊東 敏雄 ,  坂田 美和 ,  山路 哲男 ,  五十嵐 泰▲史▼
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992231004
Publication number (International publication number)：1994080879
Application date： Aug. 31, 1992
Publication date： Mar. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 塗布性を有しかつ従来より硬化特性及び硬化後の熱的安定性に優れるケイ酸ガラスが得られるシリコーン樹脂組成物を提供する。【構成】 下記(1)式で示されるポリ(シロキサン)1.0gと、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネ-ト20mgとを5mlのメチルイソブチルケトンに溶解し塗布溶液とする。これを回転塗布法により基板上に塗布して薄膜を得る。この試料を大気中で160°Cの温度で加熱しながら高圧水銀ランプからの紫外線を10分間照射する。【化1】

Claim (excerpt)：

酸の作用で切断可能なC-O結合を全部又は一部の側鎖及び全部の末端に有するポリ(シロキサン)と、放射線の作用により酸を発生する酸発生物質とを含むことを特徴とするシリコーン樹脂組成物。

IPC (7)：

C08L 83/04 LRT ,  C03C 3/04 ,  C08K 5/00 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-070662
  
• 特開平4-159322
  
• 新規な有機珪素化合物およびそれを含有する組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-300991   Applicant：ダウ・コーニング・リミテッド