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J-GLOBAL ID：200903054848888425

酸化物膜の製造方法

Inventor： 石沢 均
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998352800
Publication number (International publication number)：2000178792
Application date： Dec. 11, 1998
Publication date： Jun. 27, 2000
Summary：

【要約】【課題】本発明は金属基板の表面に、見かけの面積の数百倍から千倍程度に増加した表面積をもつ多孔質酸化チタン膜を低コストで形成する方法を提供すること、さらには、この多孔質酸化膜が高い活性をもつようにするための製造方法を提供する。【解決手段】金属基板を用意し、該金属基板の少なくとも一方の面を陽極酸化し、陽極酸化膜を形成する工程と、該陽極酸化膜上に酸化物微粒子を含む液体若しくは金属アルコキシド又は金属塩の溶液を塗布し、酸化膜を形成する工程と、からなる酸化物膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

金属基板を用意し、該金属基板の少なくとも一方の面を陽極酸化し、陽極酸化膜を形成する工程と、該陽極酸化膜上に酸化物微粒子を含む液体若しくは金属アルコキシド又は金属塩の溶液を塗布し、酸化膜を形成する工程と、からなる酸化物膜の製造方法。

IPC (5)：

C25D 11/26 302 ,  B05D 3/10 ,  B05D 7/24 301 ,  C23C 18/12 ,  C25D 11/00 301

FI (5)：

C25D 11/26 302 ,  B05D 3/10 B ,  B05D 7/24 301 Z ,  C23C 18/12 ,  C25D 11/00 301

F-Term (19)：

4D075BB67X ,  4D075BB79Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DC22 ,  4D075EA02 ,  4D075EC01 ,  4D075EC08 ,  4K022AA02 ,  4K022BA15 ,  4K022BA22 ,  4K022BA23 ,  4K022BA25 ,  4K022BA26 ,  4K022BA28 ,  4K022BA33 ,  4K022CA29 ,  4K022DA06