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J-GLOBAL ID：200903054862352040

エッチング装置

Inventor： 棟安 孝司
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  東芝電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993303596
Publication number (International publication number)：1995161688
Application date： Dec. 03, 1993
Publication date： Jun. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】この発明の目的は、均一なエッチング速度が得られるとともに、パーティクルなどの発生が少なく、しかも、エッチングチャンバ内の真空度を確保できるドライエッチング装置を提供することにある。【構成】この発明のドライエッチング装置によれば、基板Sを第1の方向に移動させるステージ2が移動される方向に直交する方向に延出されたエッチングガス吹出しノズル10と、この吹出しノズルを取り巻くように配置され、吹出しノズルを介して対象物に放射され、対象物のエッチングに寄与したエッチング終了ガスを外部に排出するための排気口8とにより提供されるエッチングガス流により、対象物のエッチングに寄与したエッチングガスがチャンバ1内部に滞留されることなく速やかに、チャンバから排出される。

Claim (excerpt)：

スリット状に形成され、エッチングガスをエッチングチャンバ内に導入するノズルと、このノズルの近傍に、上記ノズルを挟み込むよう配置された整流板と、この整流板の両側に配置され、上記ノズルから放出され、対象物のエッチングに寄与したエッチングガスを吸い出す排気管と、を有するエッチング装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/306

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 P