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J-GLOBAL ID:200903054872391183

高性能、高耐久性、低放射率ガラスおよびその製法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小島 高城郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993117845
Publication number (International publication number):1994171984
Application date: Apr. 21, 1993
Publication date: Jun. 21, 1994
Summary:
【要約】【目的】 熱分解被膜と同等の耐久性を持ち、最適な太陽光制御特性を有するスパッタ被膜形成ガラスを提供すること。また、低コストにて同ガラスを製造するための方法を提供すること。【構成】 スパッタ被膜形成ガラス製品は、ガラス基板と、その上に内側より外方へ向けて、Si3N4の下層、ニッケルまたはニッケル合金の第1層、銀の層、ニッケルまたはニッケル合金の第2層、Si3N4の上層から成る層構造を有する。ガラス基板が約2mm〜6mmの厚さを有する時、通常放射率(En)は約0.12未満、半球放射率(Eh)は約0.16未満を有する。
Claim (excerpt):
ガラス基板はその上に内側より外方へ向けて、Si3N4の下層、ニッケルまたはニッケル合金の第1層、銀の層、ニッケルまたはニッケル合金の第2層、Si3N4の上層から成る層構造を有し、ガラス基板が約2mm〜6mmの厚さを有する時、通常放射率(En)は約0.12未満、半球放射率(Eh)は約0.16未満を有することを特徴とするスパッタ被膜形成ガラス製品。
IPC (2):
C03C 17/36 ,  E06B 5/00

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