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J-GLOBAL ID：200903054888779203

超純水製造装置

Inventor： 日高 真生 ,  田辺 円 ,  田中 順
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 畑中 芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997022595
Publication number (International publication number)：1998216749
Application date： Feb. 05, 1997
Publication date： Aug. 18, 1998
Summary：

【要約】【課題】 半導体産業におけるシリコンウエハの洗浄等に用いられる超純水の製造装置において、被処理水にアルカリ性条件下でオゾンを添加することにより被処理水中に含まれる有機物を酸化分解する有機物酸化装置を用いて有機物を含む被処理水中の有機物除去を行う場合に、有機物酸化装置の被処理水へのアルカリ剤の添加量を低減するとともに、後段のイオン交換装置の負荷が増大することを防止する。【解決手段】 超純水製造装置の有機物除去を行う経路に、被処理水にアルカリ性条件下でオゾンを添加する有機物酸化装置38と、OH形の強塩基性陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換装置42と、脱塩室に陽イオン交換樹脂が充填された電気透析装置44とを、被処理水をこの順序に通水するように設置するとともに、電気透析装置44のアルカリ性濃縮水を有機物酸化装置38の被処理水に添加してこの被処理水のpH調整に使用する。

Claim (excerpt)：

超純水製造装置の有機物除去を行う経路に、被処理水にアルカリ性条件下でオゾンを添加することにより該被処理水中に含まれる有機物を酸化分解する有機物酸化装置と、OH形の強塩基性陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換装置と、脱塩室に陽イオン交換樹脂が充填された電気透析装置とを、被処理水をこの順序に通水するように設置するとともに、電気透析装置の濃縮室から得られるアルカリ性濃縮水を有機物酸化装置の被処理水に添加して該被処理水のpH調整に使用することを特徴とする超純水製造装置。

IPC (5)：

C02F 1/78 ,  B01D 61/48 ,  B01J 41/04 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/469

FI (5)：

C02F 1/78 ,  B01D 61/48 ,  B01J 41/04 H ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/46 103