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J-GLOBAL ID：200903054903328132

合金ターゲット,磁性薄膜,磁気記録装置およびそれらの製造方法

Inventor： 桐野 文良 ,  小礒 良嗣 ,  森脇 英稔 ,  大友 茂一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994027707
Publication number (International publication number)：1995238369
Application date： Feb. 25, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】Feを主体とし、高飽和磁束密度を維持しつつ耐食性を向上させた、軟磁気特性を有する磁性膜およびそれを用いた磁気記録装置を提供する。【構成】微結晶析出型の軟磁性薄膜1の製造において、磁性膜を構成する元素を微粉末化して、元素がそれぞれ単体で存在する状態で熱間静圧プレス法(HIP法)により成型したものを成膜用スパッタターゲットに用い、さらに熱処理条件等により、形成される薄膜の粒子サイズを制御する。

Claim (excerpt)：

Fe,Ta,Cの各々を粉体化した後に、熱間静圧プレス法により成型固形化し、さらに優位には各々の元素が互いに化合することなく単体で存在する混合物であることを特徴とするスパッタリング用合金ターゲット。

IPC (6)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/58 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/23 ,  H01F 10/14 ,  H01F 41/18