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J-GLOBAL ID：200903054907783918

電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物

Inventor： 佐々木 知也 ,  水谷 一良 ,  白川 浩司
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001142185
Publication number (International publication number)：2002341538
Application date： May. 11, 2001
Publication date： Nov. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 高感度かつ高解像度で、PEDの安定性に優れた電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物(b)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(c)イオン化ポテンシャル(Ip)値がp-エチルフェノールのIp値より小さい値を示す化合物の残基を有し、酸に対して安定な低分子化合物(d)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物(b)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂(c)イオン化ポテンシャル(Ip)値がp-エチルフェノールのIp値より小さい値を示す化合物の残基を有し、酸に対して安定な低分子化合物(d)溶剤を含有することを特徴とする電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (11)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17