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J-GLOBAL ID:200903054957487856
光防御化粧品組成物およびポリマー並びにこれらの使用方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995133074
Publication number (International publication number):1995330567
Application date: May. 31, 1995
Publication date: Dec. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】 光防御力が改良された抗日光化粧品組成物を提供する。【構成】 連続相を水相とする化粧品に許容されるビヒクル中に、紫外線を遮蔽し得る光防御システムと、少なくとも一つの以下の(i)式(I)の単位、および(ii)式(II)および/または式(III)の単位【化1】【化2】【化3】の繰り返しからなるポリマー類から選択されることを特徴とする。
Claim (excerpt):
連続相を水相とする化粧品に許容されるビヒクル中に、紫外線を遮蔽し得る光防御システムと少なくとも一つのポリマーとを含有する、皮膚および/または髪の光防御等のための局所使用用化粧品組成物において、前記ポリマーが、以下の(i)式(I)の単位、および(ii)式(II)および/または式(III)の単位【化1】【化2】【化3】[式中、aは0または1に等しい整数、R1、R2、R3およびR4は、同一であっても異なっていてもよく、水素原子またはC1-C4のアルキル基を示し、R5はCH3CO-基もしくはR6-(OC2H5)b-基(式中、R6はC2-C20のアルキル基、かつbは1〜20の整数(1、20を含む)である)を示し、前記ポリマーが式(II)の単位を欠く場合は、R2およびR4基は同時に水素原子を示すことができない]の繰り返しからなるポリマー類から選択されることを特徴とする化粧品組成物。
IPC (19):
A61K 7/42
, A61K 7/00
, A61K 7/02
, A61K 7/032
, A61K 7/06
, A61K 7/075
, A61K 7/11
, C08F216/16 MKY
, C08F218/08 MLH
, C08F218/12 MLK
, C08K 3/22
, C08K 5/00
, C08L 29/10 LGZ
, C08L 31/02 LHB
, C08L 33/06 LHU
, C08L 33/06 LHV
, C09K 3/00 104
, C07D235/18
, C07D251/70
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭54-041337
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メイクアツプ化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-179908
Applicant:ポーラ化成工業株式会社
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特開昭53-094041
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