Pat

J-GLOBAL ID：200903054958144766

マルチビーム走査装置

Inventor： 中島 智宏 ,  成田 昌樹 ,  志村 顕 ,  山崎 修一
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 有我 軍一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995194526
Publication number (International publication number)：1997043523
Application date： Jul. 31, 1995
Publication date： Feb. 14, 1997
Summary：

【要約】【課題】 複数個の半導体レーザからの光ビームを合成して出射する光源方式において、複雑な調整機構を必要とせずに、合成された光ビームを光軸回りに回動調整して走査線ピッチの調整を容易に行えるようにすることを目的とする。【解決手段】 複数個の半導体レーザ11 ,12と該半導体レーザ11,12から光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズ16,17とこれら光ビームを重ね合わせて出射するビーム合成手段21とを実質一体的に合成してなる光源部を有し複数本の光ビームを同時に繰り返し走査するマルチビーム走査装置において、前記光源部は、ビーム合成手段21から射出される各光束が少なくとも主走査方向に所定角度隔てて出射されるよう構成すると共に、前記合成された光ビームを光軸回りに回動調整自在に構成した。

Claim (excerpt)：

複数個の半導体レーザと該半導体レーザから光ビームを各々平行光束にするコリメータレンズとこれら光ビームを重ね合わせて出射するビーム合成手段とを実質一体的に合成してなる光源部を有し複数本の光ビームを同時に繰り返し走査するマルチビーム走査装置において、前記光源部は、ビーム合成手段から射出される各光束が少なくとも主走査方向に所定角度隔てて出射されるよう構成すると共に、前記合成された光ビームを光軸回りに回動調整自在にしたことを特徴とするマルチビーム走査装置。

IPC (4)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H01S 3/101 ,  H01S 3/18

FI (4)：

G02B 26/10 B ,  H01S 3/101 ,  H01S 3/18 ,  B41J 3/00 D