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J-GLOBAL ID：200903055007908070

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 河田 正司 ,  林 敦 ,  林 宏
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993305938
Publication number (International publication number)：1995134405
Application date： Nov. 11, 1993
Publication date： May. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】 感度、残膜率、解像度などの諸特性のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)と感光剤(b)を含有するポジ型レジスト組成物において、該感光剤として下記一般式〔I〕で示されるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(R1〜R6:互いに同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、またはアルコキシ基である。)

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性フェノール樹脂(a)と感光剤(b)を含有するポジ型レジスト組成物において、該感光剤として下記一般式〔I〕で示されるポリヒドロキシ化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】(R1〜R6:互いに同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、またはアルコキシ基である。)

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027