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J-GLOBAL ID：200903055022379520

化学吸着膜形成方法

Inventor： 高田 祐助 ,  吉野 庸三
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992008967
Publication number (International publication number)：1993195222
Application date： Jan. 22, 1992
Publication date： Aug. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】 化学吸着による膜形成において、従来の化学吸着膜形成方法は溶液中に基材を浸漬するというウェット法であり、その方法における、(1)溶液に溶ける基材が使えない、(2)膜形成に時間がかかる、(3)有害な塩素系溶剤を多量に使うというような課題を解決し、手軽に、敏速に、かつ安全に化学吸着膜を形成する。【構成】 真空容器1内を1Paになるまで減圧する。次に密閉容器のコック4を開きクロロシラン系化合物2を気化させてAl基板等の基材3の表面に形成されている自然酸化膜と化学的に結合させ、単分子膜よりなる化学吸着膜6を形成する。【効果】 溶液により形成された化学吸着膜と同じ特性をもつ化学吸着膜を安全、かつ迅速に形成することができる。

Claim (excerpt)：

減圧下で、基材にクロロシラン系化合物、メトキシシラン系化合物、およびエトキシシラン系化合物の少なくとも一つを気相により吸着させる化学吸着膜形成方法。

IPC (4)：

C23C 16/00 ,  C07B 63/00 ,  C09K 3/00 ,  C09K 3/18 104