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J-GLOBAL ID：200903055025943788
基板上に微細な凹凸パターンを形成する方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大野 精市
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992265750
Publication number (International publication number)：1994114334
Application date： Oct. 05, 1992
Publication date： Apr. 26, 1994
Summary：
【要約】【目的】基板上に凸頂部と凹底部の距離が大きい微細な凹凸パターンを形成する。【構成】メチルトリエトキキシラン、水、エタノールからなる塗布溶液をガラス板上に塗布し、この塗布膜に微細な凹凸パターンを有する型を接合押圧して型の凸形状に対応する凹形状を有する膜体を基板上に形成し、離型後塗布膜を350°Cに加熱してメチル基含有SiO2ガラス類似膜体からなる直径10μm、高さ5μmの半球状のレンズ体を多数基板上に形成した。
Claim (excerpt)：
基板上及び/または微細な凹凸パターンを有する有機樹脂製型上に、加水分解・縮重合し得る化学式1の金属有機化合物を含む溶液を用いて塗布膜を形成し、該基板及び該型を接合押圧して該塗布膜を該型の凹凸パターンを有する膜体とし、その後該型を該膜体から離型し、該膜体を加熱することにより該有機金属化合物の縮重合体とする、基板上に微細な凹凸パターンを形成する方法。化学式1:XkMARmMA:原子価数4の金属X:重合可能な官能基R:アルキル基またはアリール基(kは自然数、mは1または2の整数で、k+m=4を満たす)
IPC (5)：
B05D 5/06 104
, B05D 3/02
, B05D 7/24 302
, B29C 59/02
, G02F 1/1333 500
Cited by examiner (6)
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