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J-GLOBAL ID：200903055035141760

レジスト現像液および現像方法

Inventor： 小澤 角栄 ,  阿部 信紀
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000023449
Publication number (International publication number)：2001215731
Application date： Feb. 01, 2000
Publication date： Aug. 10, 2001
Summary：

【要約】【課題】 実用上許容できる電子線照射量でありながら、比較的短い現像時間で現像可能であり、かつ優れたパターン形状を得ることが可能なレジスト現像液を提供する。【解決手段】 脂肪族直鎖状エーテル系溶剤または芳香族エーテル系溶剤と、炭素数5以上のケトン系溶剤との混合溶剤をレジスト現像液として用いる。

Claim (excerpt)：

スチレン系単量体とアクリル系単量体との共重合体を含有するレジスト材料を現像するためのレジスト現像液であって、脂肪族直鎖状エーテル系溶剤または芳香族エーテル系溶剤と、炭素数5以上のケトン系溶剤とを含有するレジスト現像液。

IPC (2)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/30 569 E

F-Term (8)：

2H096AA24 ,  2H096BA11 ,  2H096EA06 ,  2H096GA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA04 ,  5F046AA09 ,  5F046LA12