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J-GLOBAL ID：200903055083094162

反応性基を有するポリスチレンの製造方法

Inventor： 東村 敏延 ,  澤本 光男 ,  上垣外 正己 ,  宮下 和晃
Applicant, Patent owner： 東村 敏延
Agent (1)： 幸田 全弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992332178
Publication number (International publication number)：1994157627
Application date： Nov. 19, 1992
Publication date： Jun. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 スチレンのリビングカチオン重合で、片末端に反応性基を有する分子量分布の狭いポリスチレンを容易に得る。【構成】 重合開始剤として、特定の有機ハロゲン化合物と、ルイス酸性を有するハロゲン化金属とからなる重合開始剤を用い、第4級アンモニウム塩の存在下でスチレンをリビングカチオン重合する。

Claim (excerpt)：

4級アンモニウム塩の存在下で、下記化1の一般式(式中、Xはハロゲン原子であり、Yは反応性置換基である。)で表される有機ハロゲン化合物とルイス酸性を有するハロゲン化金属とからなる重合開始剤により、スチレンをリビングカチオン重合させることを特徴とする反応性基を有するポリスチレンの製造方法。【化1】CH3 -CHX-O-CH2 CH2 -Y

IPC (2)：

C08F 4/06 MEH ,  C08F 12/00 MJT