エキシマレーザーアブレーション用レジスト材

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高橋勝利
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996176407
Publication number (International publication number)：1998018059
Application date： Jul. 05, 1996
Publication date： Jan. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】本発明の課題は、リソグラフィー技術でレジスト膜の現像と剥離にエキシマレーザー光を用いる方法で使用するのに適した高分子系レジスト材を提供する。【解決手段】ポリウレタン系化合物で、芳香族ウレタン結合及び/または芳香族ウレア結合を、NCO基に換算して15重量%以上含有し、加熱・乾燥により架橋構造を形成する性質を有することを特徴とするエキシマレーザーアブレーション用レジスト材。

Claim (excerpt)：

ポリウレタン化合物を主成分として含むことを特徴とするエキシマレーザーアブレーション用レジスト材。

IPC (6)：

C23F 1/00 102 , C08G 18/76 NFH , C23F 4/04 , G03F 7/035 , G03F 7/36 , H01L 21/027

FI (6)：

C23F 1/00 102 , C08G 18/76 NFH , C23F 4/04 , G03F 7/035 , G03F 7/36 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平2-077748
特開昭59-105638
ポジ型感光性組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-114305 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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