Pat

J-GLOBAL ID：200903055099300064

エキシマレ-ザ-アニ-ル法及びエキシマレ-ザ-アニ-ル装置

Inventor： 川村 哲也 ,  古田 守 ,  吉岡 達男 ,  筒 博司 ,  宮田 豊
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 松田 正道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991317851
Publication number (International publication number)：1993152313
Application date： Dec. 02, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体薄膜の結晶化等に用いるエキシマレ-ザ-アニ-ル法における安定したレ-ザ-アニ-ル処理の継続を実現すること。【構成】 複数回のレ-ザ-照射を2つ以上のグル-プに分け、設定したエネルギ-(B)に対して、レ-ザ-出力のばらつきの半分程度低エネルギ-の設定エネルギー(A)で最初のグル-プの照射を行ない、その後は本来のエネルギ-設定値(B)で照射を行なう。

Claim (excerpt)：

被照射物に対して、複数回(n回)のエキシマレ-ザ-光を照射する際に、n回の照射を複数個のグル-プに分割し、最初のグル-プのm回(m<n)のレ-ザ-エネルギ-の設定値(A)を、残りのグル-プのレ-ザ-照射エネルギ-の設定値の最大値(B)より小さく設定し、かつそのエネルギ-差(B-A)をレ-ザ-の出力ばらつきの約半分に設定することを特徴とするエキシマレ-ザ-アニ-ル法。

IPC (3)：

H01L 21/324 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/268