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J-GLOBAL ID：200903055104645296

質量分析装置およびそれを備えるイオン注入装置

Inventor： 高橋 正人 ,  酒井 滋樹
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997336338
Publication number (International publication number)：1999154485
Application date： Nov. 19, 1997
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】 質量分離器内で発生して当該質量分離器を出た二次イオンがイオン検出器に到達することを抑制して、イオンビームの質量分析を正確に行うことができるようにする。【解決手段】 この質量分析装置20aは、質量分離器26とイオン検出器32との間に、イオン通過孔48を有していて直流電源50から正電圧V3 が印加される反射電極46を設けている。しかもこの正電圧V3 の大きさを、質量分離器26に入射するイオンビーム6の運動エネルギーを加速電圧に換算した電圧V1よりも小さく、かつ質量分離器26内で発生する二次イオン44の運動エネルギーを加速電圧に換算した電圧V2 よりも大きくしている。

Claim (excerpt)：

磁界および電界の少なくとも一方を用いてイオンビームの質量分離を行う質量分離器と、この質量分離器の下流側に設けられていて当該質量分離器から導出されるイオンを受けるイオン検出器とを備えていてイオンビームの質量分析を行う質量分析装置において、前記質量分離器とイオン検出器との間に、イオン通過孔を有していて正電圧が印加される反射電極を設け、しかもこの正電圧の大きさが、前記質量分離器に入射するイオンビームの運動エネルギーを加速電圧に換算した電圧よりも小さく、かつ前記質量分離器内で発生する二次イオンの運動エネルギーを加速電圧に換算した電圧よりも大きいことを特徴とする質量分析装置。

IPC (4)：

H01J 49/06 ,  G01T 1/29 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265

FI (4)：

H01J 49/06 ,  G01T 1/29 A ,  H01J 37/317 Z ,  H01L 21/265 T