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J-GLOBAL ID：200903055111120450

非線形光学材料およびその製造方法

Inventor： 真鍋 由雄 ,  棚橋 一郎 ,  三露 常男
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991288662
Publication number (International publication number)：1993127206
Application date： Nov. 05, 1991
Publication date： May. 25, 1993
Summary：

【要約】【目的】 酸化物半導体、その混晶などの酸化物半導体微粒子を非晶質薄膜中に多量にドープでき、良好な非線形光学特性を有する非線形光学材料およびその製造方法を提供する。【構成】 スパッタ装置10を用いてCu2 Oと酸化ケイ素のターゲット1、2に高周波電力を供給してスパッタリングを行いつつ、シャッタ6、7を制御して酸化物半導体微粒子と非晶質薄膜である酸化ケイ素とを交互に基板3上に作製し、且つ、酸化物半導体微粒子を形成する際に水素ガスをガス供給口9によって供給し非線形光学材料を得る。

Claim (excerpt)：

Cu2 O、Ag2 O、Pb2 Oのうちの一つの酸化物半導体の微粒子、および/または前記酸化物半導体の少なくとも2種以上からなる混晶の微粒子が、前記酸化物半導体より大きな光学的禁制帯幅を有する非晶質薄膜中に分散されてなる非線形光学材料。