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J-GLOBAL ID:200903055116110711
水処理方法および水処理装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (6):
江原 省吾
, 田中 秀佳
, 白石 吉之
, 城村 邦彦
, 熊野 剛
, 山根 広昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004376602
Publication number (International publication number):2006181449
Application date: Dec. 27, 2004
Publication date: Jul. 13, 2006
Summary:
【課題】長期間安定して存在し得る、平均的にクラスターの小さい水を低コストで大量に生成可能な方法と装置を提供すること。【解決手段】水路の上流側から順番に、高圧水ジェットの注入によるキャビテーションによって真空マイクロバブルを発生させるキャビテーション発生手段と、水路内に磁場を形成する磁場形成手段とを設ける。必要に応じて、キャビテーション発生手段の上流側に、水路内の水に対して空気(またはオゾン)の気泡を混入させる気泡混入手段を設ける。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
水路内を流れる水に、高圧水ジェットの注入によるキャビテーションによって真空マイクロバブルを発生させる工程と、水路内を流れる前記真空マイクロバブルに磁場を作用させる工程とを有することを特徴とする水処理方法。
IPC (6):
C02F 1/48
, B01F 1/00
, B01F 3/04
, B01F 5/02
, C02F 1/34
, C02F 1/78
FI (6):
C02F1/48 A
, B01F1/00 A
, B01F3/04 A
, B01F5/02 Z
, C02F1/34
, C02F1/78
F-Term (28):
4D037AA01
, 4D037AA11
, 4D037BA26
, 4D037BB09
, 4D037CA05
, 4D037CA12
, 4D050AA01
, 4D050AA12
, 4D050AB06
, 4D050BB01
, 4D050BB02
, 4D050BC10
, 4D050BD03
, 4D050CA11
, 4D050CA20
, 4D061DA01
, 4D061DA08
, 4D061DB06
, 4D061EA17
, 4D061EC11
, 4D061ED03
, 4D061ED06
, 4D061ED20
, 4G035AA01
, 4G035AB05
, 4G035AB27
, 4G035AC19
, 4G035AE05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
磁気水処理装置およびその組立て方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-125869
Applicant:有限会社伸興設備
Cited by examiner (2)
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