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J-GLOBAL ID:200903055161674928
α-ヒドロキシアルキル基をもつアクリル酸又はそのエステルの重合体又は共重合体
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
阿形 明
, 水口 崇敏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004267534
Publication number (International publication number):2005042119
Application date: Sep. 14, 2004
Publication date: Feb. 17, 2005
Summary:
【課題】 ArFエキシマレーザー光に対して透明性が高く、高解像性を有するとともに、膨潤がなく、かつ断面形状が垂直なレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物の樹脂成分として好適な重合体及び共重合体を提供する。【解決手段】 α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸及びそのアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーの重合体又は共重合体、及び(a)α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸及びそのアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーと、(b)(a)以外のエチレン性不飽和カルボン酸及びそのエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーとの共重合体とする。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
α-(ヒドロキシアルキル)アクリル酸及びそのアルキルエステルの中から選ばれる少なくとも1種のモノマーの重合体又は共重合体。
IPC (4):
C08F20/00
, G03F7/033
, G03F7/038
, H01L21/027
FI (4):
C08F20/00
, G03F7/033
, G03F7/038 601
, H01L21/30 502R
F-Term (29):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB43
, 2H025CB45
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 2H025FA17
, 4J100AJ02Q
, 4J100AJ03Q
, 4J100AL08Q
, 4J100AL29P
, 4J100BA03Q
, 4J100BC12Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (7)
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耐熱性樹脂の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-073089
Applicant:三菱レイヨン株式会社
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新規水溶性ポリマー、これを用いた反射防止膜材料及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-195409
Applicant:和光純薬工業株式会社
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特開平4-209644
-
インパクトドツトプリンタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-218415
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-074717
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-074718
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-308587
Applicant:株式会社日本触媒
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