紫外レーザ装置及び半導体露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：三品岩男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997152394
Publication number (International publication number)：1998341054
Application date： Jun. 10, 1997
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】時間コヒーレンスおよび空間コヒーレンスの高い、しかも大出力の193nmあるいはその近傍波長のレーザ光を発生する紫外レーザ装置を実現すると共に、該紫外レーザ装置を光源として用いてレンズ波面収差測定を行うフィゾー干渉計を提供する。【解決手段】500nm付近の連続波を発生する第1のレーザ23、266nmの連続波を発生する第2のレーザ21、チタンサファイヤ結晶を含む第1の共振器24、および、和周波発生のための第2の共振器22を備え、これら共振器24、22の光路中において反射鏡223と反射鏡224との間の光路を両共振器間で共有させ、その中に和周波発生のための非線形光学結晶BBO(β-BaB2O4)を配置することによって、193nmの出力光27を得る。

Claim (excerpt)：

和周波発生を行う紫外レーザ装置において、第1のレーザ光を発生させる第1のレーザ光発生源および該第1のレーザ光を共振させる第1の共振器と、第2のレーザ光を発生させる第2のレーザ光発生源および該第2のレーザ光を共振させる第2の共振器とを備え、前記第1および第2の共振器は、一部の光路が共有配置されるものであって、該共有光路中に設置される和周波発生のための非線形光学結晶を備えることを特徴とする紫外レーザ装置。

IPC (5)：

H01S 3/108 , G02F 1/37 , G03F 7/20 505 , H01L 21/027 , H01S 3/16

FI (5)：

H01S 3/108 , G02F 1/37 , G03F 7/20 505 , H01S 3/16 , H01L 21/30 515 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開平2-002194
第三高調波発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-184861 Applicant：富士通株式会社
特開平2-126242

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