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J-GLOBAL ID：200903055185478046
フェノ-ル性水酸基を有する高分子化合物及びその製造法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992032033
Publication number (International publication number)：1993230140
Application date： Feb. 19, 1992
Publication date： Sep. 07, 1993
Summary：
【要約】【目的】 基板上にパタ-ンを形成する材料として有用な、フェノ-ル性水酸基を有する高分子化合物、及びその製造法を提供する。【構成】 下記一般式(I)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物,一般式(I)【化1】〔式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,アルコキシ基,もしくはアリ-ル基を,Yは-SO2 -,-NHCO-,-O-,もしくは-CO-を,Zは-O-,もしくは-NH-を表す。R1 は2価の基を,R2 は水素原子,もしくはアルキル基を表す。〕及び,一般式(I)で示される高分子化合物が下記一般式(II)で示されるカルボン酸を含有する共重合体であること及び,その製造法。【化2】〔式中,X,Y,Z,R1 ,R2 は一般式(I)に示したものと同様。Pはその他の共重合可能な成分から誘導される残基。l,m,nは共重合比率を表し,l+m+n=100で,l≠0である。〕
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で示される繰り返し単位を有することを特徴とするフェノ-ル性水酸基を有する高分子化合物。一般式(I)【化1】〔式中、Xは水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,アルコキシ基,もしくはアリ-ル基を,Yは-SO2 -,-NHCO-,-O-,もしくは-CO-を,Zは-O-,もしくは-NH-を表す。R1 は2価の基を,R2 は水素原子,もしくはアルキル基を表す。〕
IPC (6)：
C08F 20/20 MML
, C08F 20/56 MNF
, C08F220/06 MLR
, C08F220/06 MLU
, C08F220/28 MMQ
, G03F 7/038
