粒子線治療装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：曾我道治 , 古川秀利 , 鈴木憲七 , 梶並順 , 大宅一宏 , 上田俊一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008080918
Publication number (International publication number)：2008161716
Application date： Mar. 26, 2008
Publication date： Jul. 17, 2008
Summary：

【課題】入射される荷電粒子ビームのエネルギーが変動しても、エネルギーが安定化され、停止の頻度が低く、エネルギーや強度の変動が小さな粒子線治療装置を提供する。【解決手段】粒子線治療装置は、荷電粒子ビームを患部に照射して治療する粒子線治療装置において、厚みが場所により異なり、透過する荷電粒子ビームのエネルギーを上記厚みに比例する分だけ低下するレンジシフタと、入射される荷電粒子ビームのエネルギーの大小に比例する厚みの上記レンジシフタの場所を透過する軌道に上記荷電粒子ビームを偏向する偏向電磁石と、上記偏向電磁石の下流側に配置され、上記荷電粒子ビームを上記偏向電磁石に入射したときの軌道の延長線上に戻す4極電磁石と、を備えるエネルギー安定化装置を具備する。【選択図】図6

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビームを患部に照射して治療する粒子線治療装置において、厚みが場所により異なり、透過する荷電粒子ビームのエネルギーを上記厚みに比例する分だけ低下するレンジシフタと、入射される荷電粒子ビームのエネルギーの大小に比例する厚みの上記レンジシフタの場所を透過する軌道に上記荷電粒子ビームを偏向する偏向電磁石と、上記偏向電磁石の下流側に配置され、上記荷電粒子ビームを上記偏向電磁石に入射したときの軌道の延長線上に戻す4極電磁石と、を備えるエネルギー安定化装置を具備することを特徴とする粒子線治療装置。

IPC (1)：

A61N 5/10

FI (1)：

A61N5/10 H

F-Term (5)：

4C082AC04 , 4C082AC05 , 4C082AC06 , 4C082AG13 , 4C082AG42

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

荷電粒子ビーム装置およびその運転方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-322484 Applicant：株式会社日立製作所

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