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J-GLOBAL ID：200903055200248958

化粧料

Inventor： 藤原 浩美 ,  石角 篤 ,  小林 聡美 ,  小林 泰信 ,  苗代 英一 ,  吉川 雅之
Applicant, Patent owner： サンスター株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997043443
Publication number (International publication number)：1998236940
Application date： Feb. 27, 1997
Publication date： Sep. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】 表皮細胞増殖促進作用、抗酸化作用を有し、美肌およびシワ改善に優れた効果を有する化粧料を提供する。【解決手段】 アンチアロール、リオニレシノール、ロドデンドロールおよびプラティフィロノールならびにそれらの配糖体から選ばれる一種または二種以上の化合物を配合してなる化粧料。

Claim (excerpt)：

アンチアロール、リオニレシノール、ロドデンドロールおよびプラティフィロノール、ならびにそれらの配糖体から選ばれる一種または二種以上を配合することを特徴とする化粧料。

IPC (2)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00

FI (4)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/00 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 皮膚老化防止化粧料組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-078870   Applicant：サンスター株式会社
• 抗菌剤及びこれを含有して成る抗菌性化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-318626   Applicant：株式会社ノエビア
• メラニン生成抑制剤および美白化粧料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-356179   Applicant：鐘紡株式会社