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J-GLOBAL ID：200903055209372791

液化二酸化炭素の製造法とその装置

Inventor： キャラハン,リチャード・エイ
Applicant, Patent owner： エナーフェックス・インコーポレイテッド
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1994507202
Publication number (International publication number)：1996501142
Application date： Aug. 17, 1993
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：

【要約】液化二酸化炭素の製造法とその装置が公開される。二酸化炭素と、実質的に平衡の窒素および水を含むプロセス流(60)が冷却される(70、90)。前記プロセス流が圧縮され(130)、この結果、微量の水分を除く全水分が凝縮除去され、該プロセス流が微量の水分と長鎖炭化水素と微粒子とを除去するために洗浄され(240)、かつ窒素に富む膨張ガス流と圧縮(290)された二酸化炭素に富むガス流(280)とを製造するために膨張(300)される窒素に富むガス流(270)に分離される(260)。膨張エネルギーは、二酸化炭素に富むガス流を圧縮するために使用される。前記圧縮された二酸化炭素に富むガス流は、二酸化炭素を液化するために窒素に富む膨張ガス流によって冷却され(330)、かつ前記ガス流の中で窒素ガスの温度を低下させる。前記液化二酸化炭素(380)は、生成物として回収される。

Claim (excerpt)：

液化二酸化炭素の製造方法であって、 (a)約10〜50%の二酸化炭素と実質的に平衡の窒素および水分とから成り、その際少量の水分が、プロセス流から凝縮除去される前記プロセス流の冷却と、 (b)微量の水分を除き、本質的に全水分がプロセス流から凝縮除去される前記プロセス流の圧縮と、 (c)微量の水分と、存在する全長鎖炭化水素と、存在する全微粒子を除去するための冷却プロセス流の処理と、 (d)窒素に富むガス流と、少なくとも50%の二酸化炭素を含有する二酸化炭素に富むガス流へのプロセス流の分離と、 (e)工程(d)の二酸化炭素に富むガス流の圧縮と、 (f)窒素に富む膨張ガス流を製造するための、工程(d)の窒素に富むガス流の膨張と、工程(e)において二酸化炭素に富むガス流を圧縮するための膨張エネルギーの使用と、 (g)工程(f)において二酸化炭素を液化し、かつ該工程において、窒素残存ガスの窒素温度を低下させるための該工程からの二酸化炭素に富むガス流の冷却と、 (h)工程(g)のこのような液化二酸化炭素の回収と、 (i)上述工程において、工程(g)中の二酸化炭素に富むガス流の液化が、工程(f)において膨張された窒素に富む膨張ガス流を使用して行われ、かつ該二酸化炭素に富むガス流の該液化後、工程(a)の該冷却の少なくとも一部を実施するために、該窒素に富むガス流を使用することから成る液化二酸化炭素の製造方法。

IPC (3)：

F25J 3/02 ,  C01B 31/20 ,  F01K 17/04