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J-GLOBAL ID：200903055214011250

ソルダーレジストインキ組成物及びソルダーレジストパターン形成方法

Inventor： 斉藤 照夫 ,  中村 真二 ,  木村 紀雄 ,  稲垣 均 ,  鈴木 守夫 ,  沢崎 賢二
Applicant, Patent owner： 太陽インキ製造株式会社
Agent (1)： ▲吉▼田 繁喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992031361
Publication number (International publication number)：1993202330
Application date： Jan. 23, 1992
Publication date： Aug. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 密着性、硬度、はんだ耐熱性、耐薬品性、電気絶縁性、耐電食性等に優れたソルダーレジスト膜が得られ、現像性、光硬化性、ポットライフ等に優れ、環境問題や火災危険性に関しても優れた水稀釈可能な光硬化性・熱硬化性のソルダーレジストインキ組成物及びそれを用いたソルダーレジストパターン形成方法を提供する。【構成】 1分子中にエチレン性不飽和結合及びカルボキシル基を併せ持つ感光性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、アミノ樹脂、稀釈剤及びカルボキシル基中和用のアミン化合物からなる。中和は、予めカルボキシル基をアミン化合物で中和した感光性樹脂を用いる方法、又は組成物調製後にアミン化合物で中和する方法のいずれの方法でもよい。光硬化性・熱硬化性のソルダーレジストインキ組成物は、必要に応じて水で稀釈して粘度を調整し、プリント配線板に塗布、乾燥後、露光し、未露光部を現像してレジストパターンを形成した後、加熱して熱硬化させる。

Claim (excerpt)：

1分子中にエチレン性不飽和結合及びカルボキシル基を併せ持つ感光性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、アミノ樹脂及び稀釈剤を含有し、さらに、上記のカルボキシル基についてはアミン化合物で中和して用いることを特徴とする、水又は希アルカリ水溶液により現像して用いる水稀釈可能な光硬化性・熱硬化性のソルダーレジストインキ組成物。

IPC (4)：

C09D 11/02 PTE ,  C09D161/00 PHK ,  G03F 7/027 515 ,  H05K 3/28