妨害材料が存在する試料中の物質濃度の決定方法および装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999342325
Publication number (International publication number)：2000171394
Application date： Dec. 01, 1999
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】妨害材料の存在する状態で試料中の光吸収物質の濃度を決定する方法を提供すること。特に水溶液および気相媒体に対して等しく機能し、十分高い精度を得られ、食料品の包装充填機械における殺菌のための殺菌媒体の濃度管理に適用することで長期間の棚寿命を得られる濃度決定方法を提供する。【解決手段】この濃度測定方法は、光源から放射された光を試料に通す段階と、試料に含まれる光吸収物質および妨害材料によって光が吸収される第1波長または波長範囲、および妨害材料によって光は吸収されるが、前記物質では実質的に吸収されない第2波長または波長範囲において光の吸光度を測定する段階と、妨害材料の存在に関して修正された、要求されている物質濃度決定値を測定値から導き出す段階とを少なくとも含む。光源から放射された光の強さの変動に関して補正するために、吸光度の測定と同時に前記各波長において試料を通過されていない光源からの光の強さの測定を行い、前記濃度決定値が光の強さの測定値に基づいて放射光の強さの前記変動に起因する誤差を修正されることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

妨害材料が存在する状態で試料中の物質濃度を決定する方法であって、光源から放射された光を前記試料に通す段階と、前記物質および妨害材料によって光が吸収される第1波長または波長範囲、および前記妨害材料によってで光は吸収されるが、前記物質では実質的に吸収されない第2波長または波長範囲において、前記光の吸光度を測定する段階と、前記妨害材料の存在に関して修正された、要求されている前記物質の濃度決定値を前記測定値から導き出す段階とを少なくとも含み、前記光源から放射された光の強さの変動に関して補正するために、前記吸光度の測定と同時に、前記波長の各々において前記試料を通過されていない前記光源からの光の強さの測定が行われ、前記物質の前記濃度の決定値が、前記光の強さの測定値に基づいて、放射光の強さの前記変動に起因する誤差に関して修正される方法。

IPC (2)：

G01N 21/27 , G01N 21/33

FI (2)：

G01N 21/27 Z , G01N 21/33

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

特開昭56-106143
特開平4-093638
特開平1-244341

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