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J-GLOBAL ID：200903055260859387
擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンならびにそれらの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (2)：
早川 裕司
, 鈴木 啓靖
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006129017
Publication number (International publication number)：2007297570
Application date： May. 08, 2006
Publication date： Nov. 15, 2007
Summary：
【課題】輪成分の軸分子に対する貫通数を、簡便な手段で正確に制御することのできる擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンの製造方法、ならびに輪成分の軸分子に対する貫通数が制御された擬ポリロタキサンおよびポリロタキサンを提供する。【解決手段】シクロデキストリン分子の開口部に、末端に官能基を有し、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールとの質量比を5:95〜95:5としたポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール共重合体を貫通させ、もって、シクロデキストリン分子のポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール共重合体に対する被覆率を10〜85%とし、次いで、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコール共重合体の末端官能基と反応し得るブロック基を、その末端官能基と反応させ、ポリロタキサンを得る。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
シクロデキストリン分子の開口部に、ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールブロック共重合体が貫通してなる擬ポリロタキサンであって、
前記ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールブロック共重合体におけるポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールとの質量比が5:95〜95:5であり、
シクロデキストリン分子の前記ポリエチレングリコール-ポリプロピレングリコールブロック共重合体に対する被覆率が10〜85%である
ことを特徴とする擬ポリロタキサン。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (8)：
4C090AA05
, 4C090BA11
, 4C090BD22
, 4C090CA35
, 4C090DA06
, 4C090DA31
, 4J005AA04
, 4J005BD00
Cited by applicant (2)
-
特許第3475252号公報
-
特許第3288149号公報
Article cited by the Patent：
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