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J-GLOBAL ID：200903055274506703

基板処理装置

Inventor：
原 孝志

About 原 孝志


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 稲岡 耕作 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997049268
Publication number (International publication number)：1998247674
Application date： Mar. 04, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：
【要約】【課題】パーティクルの発生が少なく、かつ、装置の省スペース化を容易に実現できる基板処理装置を提供する。【解決手段】複数の処理ユニットを備えた基板処理モジュール201には、中央に主搬送ロボットMTRが備えられている。この主搬送ロボットMTRは、基板処理装置の底面のフレームに固定されており、第1回転駆動軸まわりに回転可能な第1アームと、この第1アームに連結され、第2回転駆動軸まわりに回転可能な第2アームと、この第2アームに連結され、第3回転駆動軸まわりに回転可能な第3アームとを備えている。第1ないし第3アームは、それぞれ独立して回動することができ、これにより、主搬送ロボットMTRは、水平方向の直線走行を伴うことなく、各処理ユニットにアクセスし、基板の搬入/搬出を行える。
Claim (excerpt)：
基板に一連の処理を施す複数の処理部と、上記複数の処理部に対して基板を搬送する基板搬送機構とを含み、上記基板搬送機構は、搬送台と、この搬送台に対して、ほぼ鉛直方向に沿う第1回転駆動軸を中心に回転可能に連結された第1回転部材と、この第1回転部材を回転駆動するための第1駆動源と、上記第1回転部材に対して、ほぼ鉛直方向に沿う第2回転駆動軸を中心に回転可能に連結された第2回転部材と、この第2回転部材を回転駆動するための第2駆動源と、上記第2回転部材に対して、ほぼ鉛直方向に沿う第3回転駆動軸を中心に回転可能に連結され、基板を保持することができる基板保持手段と、この基板保持手段を回転駆動するための第3駆動源とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341
FI (4)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/30 569 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (14)
  • クラスタ型ホトリソグラフィシステム
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-165361   Applicant：セミコンダクタシステムズ,インコーポレイテッド
  • 処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-299572   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 搬送アーム装置及びこれを用いた処理室集合装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-314491   Applicant：東京エレクトロン株式会社
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