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J-GLOBAL ID:200903055284598746

液状フォトソルダレジスト組成物及びこの組成物から調整されたフォトソルダレジストフィルム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 正林 真之
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006526820
Publication number (International publication number):2007506137
Application date: May. 17, 2004
Publication date: Mar. 15, 2007
Summary:
【課題】アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂による乾燥過程におけるエポキシ化合物の現像性の低下を最小化し、解像性に優れると共にソルダ耐熱性及びめっき耐性が向上された液状フォトソルダレジスト組成物等を提供すること。【解決手段】液状フォトソルダレジスト組成物は、アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂と、紫外線反応型アクリル単量体と、エポキシ樹脂と、光重合開始剤と、有機溶媒とを含む。このエポキシ樹脂は、シアヌル酸化合物をアクリル酸系単量体と反応させてアクリル基を有する反応生成物を製造するステップ(a)と、このステップ(a)での反応生成物にエピクロロヒドリンを添加してエポキシ基を導入するステップ(b)とを備えるステップを経て調整されるような、1つのエポキシ基及び2つ以上のアクリル基を分子内に含むイソシアヌレート構造である。【選択図】なし
Claim (excerpt):
アルカリ水溶液で現像可能な紫外線硬化性樹脂と、紫外線反応型アクリル単量体と、エポキシ樹脂と、光重合開始剤と、有機溶媒とを含む液状フォトソルダレジスト組成物であって、 前記エポキシ樹脂は、シアヌル酸化合物をアクリル酸系単量体と反応させてアクリル基を有する反応生成物を製造するステップ(a)と、ステップ(a)での前記反応生成物にエピクロロヒドリンを添加してエポキシ基を導入するステップ(b)とを備えるステップを経て調整されるような、1つのエポキシ基及び2つ以上のアクリル基を分子内に含むイソシアヌレート構造である液状フォトソルダレジスト組成物。
IPC (2):
G03F 7/027 ,  H05K 3/28
FI (3):
G03F7/027 515 ,  G03F7/027 502 ,  H05K3/28 D
F-Term (24):
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC42 ,  2H025BC43 ,  2H025BC74 ,  2H025BC82 ,  2H025BC83 ,  2H025BD03 ,  2H025BD53 ,  2H025CA00 ,  2H025CB30 ,  2H025CC03 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  5E314AA27 ,  5E314AA32 ,  5E314GG11 ,  5E314GG14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平1-174522
  • 特開2051-167349

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