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J-GLOBAL ID：200903055292453153
リフローはんだ付け用還元性雰囲気ガスおよびその供給装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
大橋 弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992006184
Publication number (International publication number)：1993206632
Application date： Jan. 17, 1992
Publication date： Aug. 13, 1993
Summary：
【要約】【目的】 リフローはんだ付けに際して活性フラックスの使用とそれに伴うフロン洗浄を行う必要のない還元性雰囲気ガスとその供給装置を得る。【構成】 窒素ガス1にバブリング装置7にて発生させたアルコール蒸気をガス混合器9にて添加して還元性雰囲気ガスを得、これをリフローはんだ付け炉内に曝露してこの還元性雰囲気ガス中においてはんだ付けを行うことより、活性フラックスを使用しないで酸化銅皮膜を還元させる。【効果】 活性フラックスを使用しないで済むので、フロン洗浄の必要もなくなる。又、多少の酸素の混入は許容されるので、高価な窒素ガスの節約を図ることができる。
Claim (excerpt)：
窒素ガスにアルコール蒸気を添加したリフローはんだ付け用還元性雰囲気ガス。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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