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J-GLOBAL ID:200903055316916990

プロセス監視システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山下 一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004280840
Publication number (International publication number):2006099158
Application date: Sep. 28, 2004
Publication date: Apr. 13, 2006
Summary:
【課題】 これから発生するプロセスの状態変化を予測することが可能なプロセス監視システムを提供する。【解決手段】 プロセスデータ収集蓄積部1で、オンラインで一定の周期で収集したプロセスデータを、時系列データとして蓄積するとともに、画像データ収集蓄積部2で、オンラインで一定の周期で収集した画像データを、時系列データとして蓄積する。画像比較部3で、現在の画像データと蓄積している画像データについて類似度を計算する。検索部4で、類似度が最も高い画像データについて、その収集時刻を取得し、その時刻を基点として、その時刻以降のプロセスデータを検索する。表示部5は、検索の結果得られたプロセスデータを表示する。このようにプロセスデータを表示することで、今後のプロセス状態の変化を予測することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
プロセスデータを定周期で収集する手段と、この手段により収集されたプロセスデータを時系列で蓄積するプロセスデータ蓄積手段と、このプロセスデータ蓄積手段により蓄積されたプロセスデータを、時刻を指定して取り出すプロセスデータ取出手段と、画像データを定周期で収集する手段と、この手段により収集された画像データを時系列で蓄積する画像データ蓄積手段と、この画像データ蓄積手段により蓄積された画像データを、時刻を指定して取り出す画像データ取出手段と、現在の画像データと、前記画像データ蓄積手段から前記画像データ取出手段により取り出した画像データとを比較し、類似度を計算する手段と、この手段により計算された類似度が高い画像データを収集した時刻を取り出す手段と、この手段により取り出した時刻以降のプロセスデータを検索し、前記プロセスデータ取出手段によりプロセスデータを取り出して表示する手段とを備えたことを特徴とするプロセス監視システム。
IPC (2):
G05B 23/02 ,  G06Q 10/00
FI (2):
G05B23/02 V ,  G06F19/00 100
F-Term (3):
5H223AA01 ,  5H223EE29 ,  5H223FF03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)

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