含フッ素化合物、含フッ素重合性単量体、含フッ素高分子化合物、溶解抑制剤、それらを用いたレジスト材料

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003004262
Publication number (International publication number)：2004217533
Application date： Jan. 10, 2003
Publication date： Aug. 05, 2004
Summary：

【課題】新規な含フッ素化合物を提供する。【解決手段】一般式(1)【化1】(式中、R1は、直鎖状或いは分岐状のアルキル基若しくはアルキレン基、又は芳香環基若しくは脂環式基を含む環式構造、又は芳香環基及び脂環式基の複合置換基であり、R1の一部に、フッ素、ハロゲン、CN、酸素、窒素、珪素、アルコールを含んでもよい。R2は、水素原子、直鎖状又は分岐状のアルキル基、芳香族基、炭化水素基のいずれかであり、炭化水素基は脂環式基を含んでもよい。また、R2は、フッ素、酸素、窒素、カルボニル結合、アルコールを含んでもよい。また、構造の異なる複数のR2が同一分子中に含まれてもよい。)で表される置換基を含む含フッ素化合物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

一般式(1)

IPC (6)：

C07C69/78 , C07C31/20 , C07C43/23 , C07C69/653 , C08F14/18 , G03F7/004

FI (6)：

C07C69/78 , C07C31/20 Z , C07C43/23 E , C07C69/653 , C08F14/18 , G03F7/004 501

F-Term (51)：

2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB46 , 4H006BM10 , 4H006BM71 , 4H006BN10 , 4H006FC22 , 4H006FE11 , 4H006FE71 , 4H006FE74 , 4H006FG29 , 4H006GP03 , 4H006KC14 , 4H006KE00 , 4H006KF10 , 4J100AB07Q , 4J100AC26Q , 4J100AE09P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL24Q , 4J100AL26P , 4J100AL26Q , 4J100AR11Q , 4J100BA02Q , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA11Q , 4J100BB12P , 4J100BB17P , 4J100BB17Q , 4J100BC04P , 4J100BC08Q , 4J100BC09Q , 4J100BC53Q , 4J100BC58P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光学活性な含フッ素β-ヒドロキシエステルの製造方法、光学活性な含フッ素アルコール類の製造方法及び光学活性な含フッ素2-ヒドロキシアルカンアミド又は/及び光学活性な含フッ素アルコールの製造方法、並びに光学活性な含フッ素乳酸又はその誘導体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-291458 Applicant：ダイキン工業株式会社
水溶性パターン形成材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-172779 Applicant：信越化学工業株式会社
レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-281168 Applicant：旭硝子株式会社