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J-GLOBAL ID：200903055342728922

暗渠形成装置

Inventor： 皆川 功 ,  皆川 俊男
Applicant, Patent owner： 株式会社富士トレーラー製作所
Agent (1)： 黒田 勇治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002371149
Publication number (International publication number)：2004201511
Application date： Dec. 20, 2002
Publication date： Jul. 22, 2004
Summary：

【課題】走行機体の進行に伴い穿入ビームは進行方向に揺振動作しつつ土中Wに穿入して穿入跡溝を形成すると共に犂体の穿入後方位置の暗渠形成体は暗渠を連続して形成することになり、この際、犂体により掬われた土は暗渠形成体の上部回転面により斜め上方に円滑に移送され、このため、犂体の穿入後方位置の暗渠形成体の牽引抵抗を緩和することができ、暗渠形成作業性を向上することができると共に機構各部の耐久性を高めることができる。【解決手段】走行機体1に連結機構2により機枠3を連結し、該機枠に穿入ビーム4を揺振機構5により進行方向に揺振動作自在に縦設し、該穿入ビームの下部に土中に暗渠Hを形成可能な暗渠形成体13を配設してなり、上記穿入ビームの下部に犂体12を進行方向前下がり状に設けると共に該犂体の穿入後方位置に上記暗渠形成体13を支軸14により回転自在に横設してなる。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

走行機体に連結機構により機枠を連結し、該機枠に穿入ビームを揺振機構により進行方向に揺振動作自在に縦設し、該穿入ビームの下部に土中に暗渠を形成可能な暗渠形成体を配設してなり、上記穿入ビームの下部に犂体を進行方向前下がり状に設けると共に該犂体の穿入後方位置に上記暗渠形成体を支軸により回転自在に横設してなることを特徴とする暗渠形成装置。

IPC (3)：

A01B13/08 ,  E02B11/02 ,  E02F5/02

FI (3)：

A01B13/08 A ,  E02B11/02 Z ,  E02F5/02 B

F-Term (6)：

2B032AA07 ,  2B032DA03 ,  2B032DB03 ,  2B032DB13 ,  2B032DB17 ,  2B032DB19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭55-004468
  
• 特開昭57-155901