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J-GLOBAL ID：200903055377692963

基板保持装置およびこれを用いた露光装置

Inventor： 千葉 裕司 ,  丸茂 光司 ,  松井 紳 ,  原 真一 ,  水澤 伸俊 ,  岩本 和徳 ,  田中 裕 ,  黒澤 博史
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993232375
Publication number (International publication number)：1995142559
Application date： Aug. 25, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 減圧室内においても充分な吸着力を確保できるうえに、基板を回転させる機構を小形化できる基板保持装置およびこれを用いた露光装置を実現する。【構成】 ベースプレート1に支持された軸受1bは第1の吸着板4と一体であるロータ3を回動自在に支持し、ロータ3はDCサーボモータ7によって回動される。第1の吸着板4の外側に配置された第2の吸着板6は複動シリンダ5を介してベースプレート1に支持される。第2の吸着板を複動シリンダ5によって後退させたうえで第1の吸着板4に図示しない基板の中央部分を吸着させる。基板の位置ずれを検出してDCサーボモータ7を駆動し、第1の吸着板4を回動させて前記基板の位置ずれを解消したうえで、複動シリンダ5を駆動して第2の吸着板6を前進させ、基板の外周部分を吸着させる。

Claim (excerpt)：

それぞれ基板の一部分を吸着する吸着面を有する第1および第2の吸着板と、前記第2の吸着板に対して前記第1の吸着板を回動させる第1の駆動手段と、前記第1の吸着板を、前記第2の吸着板の吸着面から所定量だけ突出する位置と該吸着面から突出しない位置の間で進退させる第2の駆動手段を有することを特徴とする基板保持装置。

IPC (6)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-156622
  
• 特開平4-109251
  
• 特開平4-013532
  
• 特開平4-174009