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J-GLOBAL ID：200903055394923642

植物育成用培土およびそれを用いた植物の育成方法

Inventor：
遠藤 弘志

About 遠藤 弘志

, 
藤井 静

About 藤井 静

, 
加藤 徹也

About 加藤 徹也


Applicant, Patent owner：
揖斐川工業株式会社

About 揖斐川工業株式会社


Agent (1)： 廣江 武典
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999075019
Publication number (International publication number)：2000262144
Application date： Mar. 19, 1999
Publication date： Sep. 26, 2000
Summary：
【要約】【課題】 シリカゲル(ケイ酸)の供給ムラが生じることが無く、栽培または育苗範囲にケイ酸を効率よく、しかも均一に供給することができる植物育成用培土およびそれを用いた植物の育成方法を提供すること。【解決手段】 シリカゲル12と保水材13と水溶性結合材14とを含み、粒状に成形されていることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
シリカゲルと保水材と水溶性結合材とを含み、粒状に成形されていることを特徴とする植物育成用培土。
IPC (2)：
A01G 1/00 303 ,  C05D 9/00
FI (2)：
A01G 1/00 303 C ,  C05D 9/00
F-Term (36)：
2B022BA01 ,  2B022BA02 ,  2B022BA03 ,  2B022BA04 ,  2B022BA12 ,  2B022BA13 ,  2B022BA16 ,  2B022BA23 ,  2B022BA25 ,  2B022BB01 ,  4H061AA01 ,  4H061AA04 ,  4H061CC12 ,  4H061DD14 ,  4H061EE35 ,  4H061EE37 ,  4H061EE42 ,  4H061EE43 ,  4H061EE44 ,  4H061EE45 ,  4H061EE46 ,  4H061EE51 ,  4H061EE52 ,  4H061EE61 ,  4H061EE63 ,  4H061EE64 ,  4H061FF08 ,  4H061GG25 ,  4H061HH02 ,  4H061HH12 ,  4H061HH14 ,  4H061HH34 ,  4H061KK09 ,  4H061LL08 ,  4H061LL15 ,  4H061LL25
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 水稲育苗用培土
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-130274   Applicant：千葉県, 三井東圧肥料株式会社, 三井東圧化学株式会社
  • 特開昭60-149320
  • 特開昭60-149320
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