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J-GLOBAL ID：200903055397742568

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003134805
Publication number (International publication number)：2004341061
Application date： May. 13, 2003
Publication date： Dec. 02, 2004
Summary：

【課題】遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上のための技術における課題を解決したポジ型レジスト組成物を提供することにあり、より具体的には、サイドローブマージン特性に優れるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】イソソルバイド(メタ)アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生するエノン構造を有する特定のスルホニウム化合物を含有する感光性組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する下記一般式(I)または(II)で表される化合物を含有する感光性組成物。

IPC (4)：

G03F7/039 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (4)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R

F-Term (20)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BC52P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38