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J-GLOBAL ID：200903055451133700

プリント基板の製造装置および製造方法

Inventor： 柄松 濱太郎
Applicant, Patent owner： 株式会社ケムテックジャパン
Agent (1)： 藤本 英介 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999148579
Publication number (International publication number)：2000338649
Application date： May. 27, 1999
Publication date： Dec. 08, 2000
Summary：

【要約】【課題】 識別マーキングを考慮したステップ露光を行ないつつ、歩留りのよい原版フォトマスクのステップ露光を可能とするプリント基板の製造装置、及び製造方法を提供すること。【解決手段】 プリント基板2への露光工程において、配線パターン領域3aと配線パターン領域3aの周囲に識別マーク領域3c1〜3c3とを有する原版マスク3を、そのプリント基板2への露光位置を逐次移動しながら複数回の露光を行うプリント基板の分割露光装置Aであって、原版マスク3をプリント基板2の被露光面側に設け、また、その原版マスク3のプリント基板2との反対面側には不透明の遮蔽部材4を設け、そして、その遮蔽部材4が原版マスク3の識別マーク領域3c1〜3c3を選択的に遮蔽する。

Claim (excerpt)：

プリント基板への露光工程において、配線パターン領域と該配線パターン領域の周囲に識別マーク領域とを有する原版マスクを、該プリント基板への露光位置を逐次移動しながら複数回の露光を行うプリント基板の製造装置であって、前記原版マスクをプリント基板の被露光面側に設け、前記原版マスクのプリント基板との反対面側に不透明の遮蔽部材を設け、該遮蔽部材が該原版マスクの識別マーク領域を選択的に遮蔽することを特徴とするプリント基板の製造装置。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501 ,  H05K 3/06

FI (3)：

G03F 1/08 R ,  G03F 7/20 501 ,  H05K 3/06 E

F-Term (18)：

2H095BA01 ,  2H095BA02 ,  2H095BA03 ,  2H095BA11 ,  2H095BE04 ,  2H097AA11 ,  2H097AB05 ,  2H097FA02 ,  2H097FA03 ,  2H097GA03 ,  2H097GA06 ,  2H097GA45 ,  2H097JA03 ,  2H097JA04 ,  2H097KA03 ,  2H097LA09 ,  5E339CF16 ,  5E339FF01