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J-GLOBAL ID:200903055462116041
真空チャンバ用部品及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
植木 久一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995118310
Publication number (International publication number):1996311692
Application date: May. 17, 1995
Publication date: Nov. 26, 1996
Summary:
【要約】【目的】 CVD装置,PVD装置,ドライエッチング装置などに用いられる真空チャンバ用部品であって、真空チャンバ内に導入される腐食性のガスやプラズマに対して優れた耐食性を発揮する真空チャンバ用部品及びその製造方法を提供する。【構成】 AlまたはAl合金からなる基材表面に、厚さ20nm以上であって、Ta,Nb,V,Fe,Co及び希土類元素よりなる群から選ばれる1種以上の元素を0.1〜10at%固溶するAl基合金層の陽極酸化皮膜が形成された真空チャンバ用部品であり、上記Al基合金層を物理的蒸着法またはイオン打込み法により形成した後、陽極酸化処理を施すことにより製造することができる。
Claim (excerpt):
AlまたはAl合金からなる基材表面に、厚さ20nm以上であって、Ta,Nb,V,Fe,Co及び希土類元素よりなる群から選ばれる1種以上の元素を0.1〜10at%固溶するAl基合金層の陽極酸化皮膜が形成されたものであることを特徴とする真空チャンバ用部品。
IPC (8):
C25D 11/04 305
, C25D 11/04
, B01J 3/00
, C23C 14/14
, C23C 16/44
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
FI (8):
C25D 11/04 305
, C25D 11/04 E
, B01J 3/00 K
, C23C 14/14 B
, C23C 16/44 Z
, H01L 21/203 Z
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
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