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J-GLOBAL ID：200903055468572022

ガラス基板の洗浄方法

Inventor： 中島 典彦 ,  倉田 昇 ,  安宍 善史
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社
Agent (1)： 谷 義一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000030940
Publication number (International publication number)：2001229531
Application date： Feb. 08, 2000
Publication date： Aug. 24, 2001
Summary：

【要約】【課題】 化学強化ガラス基板の研磨工程で生じる砥粒や研磨粉を効果的に除去できる洗浄方法を提供すること。【解決手段】 本発明は、溶液が0.01Nから1Nの、カルボキシル基を2つ以上有する有機酸水溶液であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄する方法である。前記有機酸は、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、及びクエン酸であることが好ましい。さらに、本発明は、上記洗浄方法で洗浄されたガラス基板を使用した磁気記録媒体、及び該磁気記録媒体を製造する方法に関する。

Claim (excerpt)：

磁気記録媒体用ガラス基板を溶液により洗浄する磁気記録媒体用ガラス基板の洗浄方法であって、前記溶液が0.01Nから1Nの、カルボキシル基を2つ以上有する有機酸の水溶液であることを特徴とする洗浄方法。

IPC (4)：

G11B 5/84 ,  B08B 3/08 ,  C03C 23/00 ,  G11B 5/73

FI (4)：

G11B 5/84 Z ,  B08B 3/08 Z ,  C03C 23/00 A ,  G11B 5/73

F-Term (27)：

3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BA08 ,  3B201BA11 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CC21 ,  4G059AA09 ,  4G059AB01 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC16 ,  4G059AC30 ,  4G059HB03 ,  4G059HB13 ,  4G059HB14 ,  4G059HB23 ,  5D006CB04 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112GA08 ,  5D112GA30

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開平3-242352
  
• 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-041513   Applicant：ホーヤ株式会社