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J-GLOBAL ID：200903055480634378

パターン形成材料、パターン形成方法、多孔質構造体の製造方法、電気化学セル、多孔質カーボン構造体の製造方法、および多孔質カーボン構造体

Inventor： 平岡 俊郎 ,  浅川 鋼児 ,  赤坂 芳浩 ,  堀田 康之
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (6)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004168961
Publication number (International publication number)：2005029779
Application date： Jun. 07, 2004
Publication date： Feb. 03, 2005
Summary：

【課題】工程のスループットに優れ、かなりの規則性をもったナノメーターオーダーの平面パターンや三次元構造体を非常に簡便に形成できるパターン形成材料を提供する。【解決手段】下記化学式【化1】(ここで、R1,R2はそれぞれ独立に炭素数1〜20の置換または非置換のアルキル基、アリール基、アラルキル基またはアルコキシル基を示す。)で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖と、熱分解性ポリマー鎖とを有するブロックコポリマーまたはグラフトコポリマーを含有するパターン形成材料。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下記化学式

IPC (8)：

C08G81/02 ,  B01D69/08 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  C01B31/02 ,  G11B5/84 ,  H01M2/16 ,  H01M8/10

FI (9)：

C08G81/02 ,  B01D69/08 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  C01B31/02 101A ,  G11B5/84 Z ,  H01M2/16 P ,  H01M8/10 ,  H01L21/302 105A

F-Term (51)：

4D006GA07 ,  4D006MA01 ,  4D006MA06 ,  4D006MC24X ,  4D006MC27X ,  4D006NA32 ,  4D006NA62 ,  4G146AA01 ,  4G146AB05 ,  4G146AC04A ,  4G146AD11 ,  4G146BA13 ,  4G146BA16 ,  4G146BA42 ,  4G146BC02 ,  4J031AA28 ,  4J031AA53 ,  4J031AB01 ,  4J031AC01 ,  4J031AC04 ,  4J031AD01 ,  4J031AF22 ,  4J031AF30 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA02 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA20 ,  5F004AA09 ,  5F004BA20 ,  5F004DA01 ,  5F004DB01 ,  5F004DB09 ,  5F004EA03 ,  5F004FA05 ,  5H021BB01 ,  5H021BB13 ,  5H021EE04 ,  5H021EE06 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026CX05 ,  5H029AJ14 ,  5H029AK03 ,  5H029AL06 ,  5H029AM03 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029DJ04 ,  5H029DJ13

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭58-071903
  
• 特開昭59-206455