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J-GLOBAL ID:200903055481917080

プロセスの特性予測方法ならびにその予測方法を用いたプロセスの監視方法およびプロセスの制御方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 長七 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992013446
Publication number (International publication number):1993204407
Application date: Jan. 28, 1992
Publication date: Aug. 13, 1993
Summary:
【要約】【目的】短時間で精度よくプロセスの出力値の変動パターンを予測する。【構成】プロセス1の状態を表す変量として状態量x1 〜xp および出力量yを所定時間間隔でサンプリングする。各サンプリング時点から過去の所定期間前までのサンプリング値を用いて重回帰分析部2で重回帰分析を行うことにより、偏回帰係数を求める。偏回帰係数のパターンをニューラルネットワーク3で分類することにより、プロセス1の出力値yの変動パターンを予測する。
Claim (excerpt):
プロセスの状態を表す複数の変量を測定し、測定時点から所定時間前までの過去の所定期間の各変量に基づく重回帰分析を行い、少なくとも偏回帰係数に基づいてプロセスの特性の変動パターンを予測するパターン分類器としての学習情報が与えられているニューラルネットワークに、重回帰分析により求めた値を入力することによって、測定時点以後のプロセスの特性の変動パターンを予測することを特徴とするプロセスの特性予測方法。
IPC (2):
G05B 13/02 ,  G05B 23/02

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