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J-GLOBAL ID：200903055492938771

フォトレジスト組成物

Inventor： 八子 由子 ,  竹山 尚幹 ,  高橋 憲司
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995327002
Publication number (International publication number)：1997166871
Application date： Dec. 15, 1995
Publication date： Jun. 24, 1997
Summary：

【要約】【課題】 解像度、遅延効果耐性、プロファイルなどの諸性能に優れ、ポストエキスポジャーベーク(PEB)依存性が小さく、また感度、残膜率及び塗布性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 ポジ型フォトレジスト組成物のアルカリ可溶性樹脂として、フェノール性水酸基が部分的に保護されたポリビニルフェノール系樹脂を用い、酸発生剤として、N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルを用い、さらにこの組成物に、アミン化合物及び酸化還元電位が1.7 eV 以下である電子供与体を配合する。【効果】 この組成物は、解像度、プロファイルなどのレジスト諸性能に優れ、また露光からPEBまでの放置時間によって影響を受けにくい。

Claim (excerpt)：

(A)フェノール性水酸基が部分的に保護されたポリビニルフェノール系樹脂を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B)酸発生剤としてのN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステル、(C)アミン化合物、及び(D)酸化還元電位が1.7 eV 以下である電子供与体を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R