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J-GLOBAL ID：200903055495063490

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
藤森 亨

About 藤森 亨

, 
丹 史郎

About 丹 史郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999165862
Publication number (International publication number)：2000352822
Application date： Jun. 11, 1999
Publication date： Dec. 19, 2000
Summary：
【要約】【課題】 定在波、現像欠陥の発生が実質上無く、しかも高感度で高解像力の優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)特定の末端構造を有するアセタール基を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(a)下記一般式(I)で示される基を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する化合物、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】上記一般式(I)中:R1、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。Xは、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキレン基を表す。Yは、2価の連結基を表す。Zは、置換されてもよいヘテロ環基を表す。
IPC (18)：
G03F 7/039 601 ,  C07C 43/225 ,  C07C 69/76 ,  C07C205/11 ,  C07C309/19 ,  C07C309/31 ,  C07C309/38 ,  C07C309/39 ,  C07C309/43 ,  C07C309/44 ,  C07C309/47 ,  C07C309/58 ,  C07C317/12 ,  C07C317/14 ,  C07C317/22 ,  C07C321/20 ,  C07C321/28 ,  H01L 21/027
FI (18)：
G03F 7/039 601 ,  C07C 43/225 C ,  C07C 69/76 Z ,  C07C205/11 ,  C07C309/19 ,  C07C309/31 ,  C07C309/38 ,  C07C309/39 ,  C07C309/43 ,  C07C309/44 ,  C07C309/47 ,  C07C309/58 ,  C07C317/12 ,  C07C317/14 ,  C07C317/22 ,  C07C321/20 ,  C07C321/28 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (29)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB08 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM30 ,  4H006BM74 ,  4H006BS30 ,  4H006EA22 ,  4H006EA23 ,  4H006GP03 ,  4H006TA02 ,  4H006TA04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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