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J-GLOBAL ID:200903055503374719

シリサイドを製造する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 光来出 良彦 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992104307
Publication number (International publication number):1993294608
Application date: Apr. 23, 1992
Publication date: Nov. 09, 1993
Summary:
【要約】【目的】 比較的低温で、しかも真空装置等の複雑な装置を必要としないシリサイドの製造方法を提供することを目的とする。【構成】 高温高圧水の雰囲気中でシリコン又はその化合物3と金属板4を反応させてシリサイドを製造する。高温高圧水とは、亜臨界状態以上の水であり、好ましくは、超臨界状態の水をいう。このような状態の水はシリコーンの溶解性を増し、金属板4と反応する。温度及び圧力を変化させて元素組成比が異なる種々のシリサイドを形成する。シリコーン及びその化合物3の溶解度を増加させるために、アルカリや酸を添加して、上記反応を行わせてもよい。
Claim (excerpt):
高温高圧水の雰囲気中でシリコン又はその化合物と金属とを反応させることを特徴とするシリサイドを製造する方法。

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